晶圓半導(dǎo)體產(chǎn)品、其制作方法與光刻機(jī)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110317709.4 申請日 -
公開（公告）號 CN113219800A 公開（公告）日 2021-08-06
申請公布號 CN113219800A 申請公布日 2021-08-06
分類號 G03F9/00（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 潘鈣;王國峰;楊忠武 申請（專利權(quán)）人 北?；菘瓢雽?dǎo)體科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市百瑞專利商標(biāo)事務(wù)所（普通合伙） 代理人 邢濤
地址 536000廣西壯族自治區(qū)北海市工業(yè)園區(qū)北海大道東延線336號廣西惠科科技有限公司16幢三樓301室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種晶圓半導(dǎo)體產(chǎn)品、其制作方法與光刻機(jī)，所述晶圓半導(dǎo)體產(chǎn)品包括光學(xué)對準(zhǔn)場以及多個(gè)管芯曝光場，所述光學(xué)對準(zhǔn)場包括至少一個(gè)光學(xué)對準(zhǔn)目標(biāo)標(biāo)記；管芯曝光場呈點(diǎn)陣式的排列在晶圓半導(dǎo)體產(chǎn)品上除所述至少一個(gè)光學(xué)對準(zhǔn)場以外的區(qū)域；每一所述管芯曝光場包括多個(gè)管芯以及第二精細(xì)對準(zhǔn)目標(biāo)標(biāo)記；所述光學(xué)對準(zhǔn)場為不完整場；所述光學(xué)對準(zhǔn)場位于所述晶圓半導(dǎo)體產(chǎn)品的邊緣，且所述光學(xué)對準(zhǔn)場的一部分外露出所述晶圓半導(dǎo)體產(chǎn)品，所述光學(xué)對準(zhǔn)目標(biāo)標(biāo)記形成在所述晶圓半導(dǎo)體產(chǎn)品上。這樣可以有更多的管芯曝光場設(shè)置在條件更好區(qū)域，增加了更高質(zhì)量的管芯的布局面積和布局?jǐn)?shù)量。