晶圓半導(dǎo)體產(chǎn)品、掩膜版以及光刻機(jī)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110317708.X 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113219799A 公開（公告）日 2021-08-06
申請(qǐng)公布號(hào) CN113219799A 申請(qǐng)公布日 2021-08-06
分類號(hào) G03F9/00（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 潘鈣;王國(guó)峰;楊忠武 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 北?；菘瓢雽?dǎo)體科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市百瑞專利商標(biāo)事務(wù)所（普通合伙） 代理人 邢濤
地址 536000廣西壯族自治區(qū)北海市工業(yè)園區(qū)北海大道東延線336號(hào)廣西惠科科技有限公司16幢三樓301室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種晶圓半導(dǎo)體產(chǎn)品、掩膜版以及光刻機(jī)，所述晶圓半導(dǎo)體產(chǎn)品包括光學(xué)對(duì)準(zhǔn)場(chǎng)以及多個(gè)管芯曝光場(chǎng)；所述光學(xué)對(duì)準(zhǔn)場(chǎng)包括至少一個(gè)光學(xué)對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)標(biāo)記、至少一個(gè)第一精細(xì)對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)標(biāo)記、以及多個(gè)管芯；其中，所述光學(xué)對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)標(biāo)記的對(duì)位精度低于所述精細(xì)對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)標(biāo)記的對(duì)位精度，所述管芯與所述光學(xué)對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)標(biāo)記之間間距不小于一預(yù)設(shè)的安全距離。由于在光學(xué)對(duì)準(zhǔn)場(chǎng)內(nèi)除開對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)標(biāo)記區(qū)域的空白區(qū)域內(nèi)也布置有效管芯，光學(xué)對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)標(biāo)記與其相鄰的管芯之間間距不小于一預(yù)設(shè)的安全距離，這樣避免了管芯和光學(xué)對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)標(biāo)記的相互影響，在保證光學(xué)對(duì)準(zhǔn)場(chǎng)的對(duì)準(zhǔn)功能實(shí)現(xiàn)的前提下，提升了有效管芯的數(shù)量。