晶片清洗裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202023289170.6 申請日 -
公開（公告）號 CN214043611U 公開（公告）日 2021-08-24
申請公布號 CN214043611U 申請公布日 2021-08-24
分類號 H01L21/67（2006.01）I;H01L21/687（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 郭炳熙;周鐵軍;陳勇;喻勝舉;張建鋒;米艷嬌 申請（專利權(quán)）人 廣東先導(dǎo)先進(jìn)材料股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京五洲洋和知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 張向琨
地址 511517廣東省清遠(yuǎn)市高新區(qū)百嘉工業(yè)園27-9號B區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本公開提供一種晶片清洗裝置，晶片清洗裝置包括：清洗盤，其上表面設(shè)置有限位柱，用于固定晶片；噴淋裝置，分別設(shè)置于清洗盤的上方和下方；清洗盤為圓盤結(jié)構(gòu)，清洗盤包括上表面和上表面，上表面外圓的直徑與下表面外圓的直徑相等，上表面內(nèi)圓的直徑小于下表面內(nèi)圓的直徑。清洗盤上表面內(nèi)圓的直徑小于下表面內(nèi)圓的直徑，使得清洗盤的內(nèi)側(cè)面為有角度的斜面，在旋轉(zhuǎn)過程中，由于離心力的作用下便于內(nèi)側(cè)面積水的的甩出，能夠及時(shí)排除殘留的液體，避免清洗過程中對晶片的二次污染。