集成增強(qiáng)型與耗盡型場(chǎng)效應(yīng)管的結(jié)構(gòu)及其制造方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201811631597.4 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN109727918B | 公開(kāi)(公告)日 | 2020-05-19 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN109727918B | 申請(qǐng)公布日 | 2020-05-19 |
分類號(hào) | H01L21/8234;H01L21/8236;H01L27/088 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 范謙;倪賢鋒;何偉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 蘇州漢驊半導(dǎo)體有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 215000 江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號(hào)蘇州納米城西北區(qū)11幢303室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及集成增強(qiáng)型與耗盡型場(chǎng)效應(yīng)管結(jié)構(gòu)的制造方法,包括:提供襯底,在所述襯底上依次形成緩沖層和勢(shì)壘層;在所述勢(shì)壘層上形成光刻膠層,并在所述第一歐姆接觸區(qū)與第二歐姆接觸區(qū)之間的光刻膠層上形成垂直于柵極的多個(gè)凹槽;去除無(wú)光刻膠區(qū)域所對(duì)應(yīng)位置的勢(shì)壘層,形成鰭;在第一歐姆接觸區(qū)形成第一電極,在第二歐姆接觸區(qū)行形成第二電極,在第三歐姆接觸區(qū)上形成第三電極;在所述第一電極和第二電極之間的勢(shì)壘層上形成第一柵極,在所述第二電極和第三電極上的勢(shì)壘層上形成第二柵極。在本發(fā)明將增強(qiáng)型晶體管和耗盡型晶體管集成在一個(gè)場(chǎng)效應(yīng)管中,為實(shí)現(xiàn)單片集成高速數(shù)字/模擬混合信號(hào)射頻電路奠定了基礎(chǔ)。 |
