一種通過高精密灰度光刻的方法制作光學母板的工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111561392.5 申請日 -
公開（公告）號 CN114200773A 公開（公告）日 2022-03-18
申請公布號 CN114200773A 申請公布日 2022-03-18
分類號 G03F1/68（2012.01）I;G03F7/20（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 余啟川;王吉 申請（專利權(quán)）人 美迪凱（浙江）智能光電科技有限公司
代理機構(gòu) 杭州華知專利事務所（普通合伙） 代理人 張德寶
地址 314400浙江省嘉興市海寧市長安鎮(zhèn)（高新區(qū)）新潮路15號4號廠房
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種通過高精密灰度光刻的方法制作光學母板的工藝，其工藝步驟包括玻璃基板預處理、感光膠覆膜、激光灰度直寫和沉浸式顯影。本發(fā)明工藝通過激光直寫灰度光刻設(shè)備省去了繁瑣的掩模版加工步驟，提供快速、高效和低成本光刻制程解決方案，尤其對于新產(chǎn)品研發(fā)階段，可以結(jié)合材料性能頻繁更新母板的設(shè)計方案，特別是對于既有遮擋層又有透鏡區(qū)域形狀的特殊3D形狀的母板，此技術(shù)可以通過軟件快速更新版圖設(shè)計直寫光刻母板，這就大大較低研發(fā)成本并提高研發(fā)效率。適合于微光學模組封裝用母板的制作。