制備電子級四氟化碳的反應器、不間斷反應裝置及方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110143574.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112892410B | 公開(公告)日 | 2022-04-26 |
申請公布號 | CN112892410B | 申請公布日 | 2022-04-26 |
分類號 | B01J3/04(2006.01)I;B01J3/02(2006.01)I;C01B32/10(2017.01)I | 分類 | 一般的物理或化學的方法或裝置; |
發(fā)明人 | 華祥斌;邱玲;闕祥育;羅浩;劉志強;張劍明 | 申請(專利權(quán))人 | 福建德爾科技股份有限公司 |
代理機構(gòu) | 廈門原創(chuàng)專利事務所(普通合伙) | 代理人 | 徐東峰 |
地址 | 364000福建省龍巖市上杭縣蛟洋鎮(zhèn)蛟洋工業(yè)集中區(qū)工業(yè)路6號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種制備電子級四氟化碳的反應器、不間斷反應裝置及方法。所述制備電子級四氟化碳的反應器包括:橫向反應腔;設(shè)置于所述橫向反應腔中部且與所述橫向反應腔聯(lián)通的縱向反應腔;對稱設(shè)置于所述橫向反應腔兩端的進氣管道;用于密封所述橫向反應腔的清灰閥門;水浴槽,用于容置所述橫向反應腔,并給所述橫向反應腔降溫;溫度傳感器,設(shè)置于所述縱向反應腔的中下部;噴淋管道,包括多個噴嘴環(huán)形布設(shè)于所述縱向反應腔的上部;加料口以及出氣口分別設(shè)置于所述縱向反應腔的頂部;控制器,用于當所述溫度傳感器的溫度超過210~250℃時,控制所述噴淋管道對所述縱向反應腔噴淋降溫。 |
