硅片金屬雜質(zhì)檢測樣品保護(hù)裝置及硅片金屬雜質(zhì)檢測方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010258528.4 申請日 -
公開（公告）號 CN113495095A 公開（公告）日 2021-10-12
申請公布號 CN113495095A 申請公布日 2021-10-12
分類號 G01N27/626（2021.01）I;G01N35/10（2006.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 陳宇馳;張俊寶;陳猛 申請（專利權(quán)）人 上海超硅半導(dǎo)體股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 400714重慶市北碚區(qū)兩江新區(qū)云漢大道5號附188號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種硅片金屬雜質(zhì)檢測樣品保護(hù)裝置及硅片金屬雜質(zhì)檢測方法，通過本發(fā)明公開的方案，可以將金屬雜質(zhì)檢測樣品放置在保護(hù)裝置容納腔中的自動進(jìn)樣器上，由于潔凈氣流循環(huán)系統(tǒng)可以為該保護(hù)裝置內(nèi)部輸入潔凈氣流，并采用了一定風(fēng)速的排風(fēng)，所以使得自動進(jìn)樣器附近空間不受周圍的大氣波動影響，且該保護(hù)裝置將金屬雜質(zhì)檢測樣品與外部污染源隔離，提升了檢測的穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性。