一種具有高吸光率的鈦合金微弧氧化工藝
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110180673.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112981494A | 公開(公告)日 | 2021-06-18 |
申請公布號 | CN112981494A | 申請公布日 | 2021-06-18 |
分類號 | C25D11/26;C25D5/38;C25D5/48;C23G1/10;C23F17/00 | 分類 | 電解或電泳工藝;其所用設(shè)備〔4〕; |
發(fā)明人 | 張邦清;趙李斌;付國龍;趙灝琳;程李靖;張緯棟 | 申請(專利權(quán))人 | 深圳市鈞誠精密制造有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京科家知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 鐘斌 |
地址 | 518068 廣東省深圳市南山區(qū)招商街道赤灣社區(qū)赤灣一路12號耀中廠房101 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種具有高吸光率的鈦合金微弧氧化工藝,其中微弧氧化所用電解液為Na3PO4、植酸、草酸鈉、鈷氰化鉀、Na2CO3和Na6TeO6的水溶液。采用本發(fā)明的工藝方案,短時間內(nèi)即可在鈦合金表面獲得黑色度高、色澤均勻且具有高光吸收率的氧化膜層。該膜層與基體結(jié)合良好,膜層致密度、耐磨性和硬度高,通過調(diào)節(jié)電解液濃度和相關(guān)電參數(shù)可得到不同黑色度的氧化膜層。因此,這種具有高光吸收率的鈦合金表面氧化膜層,一定程度上擴大了鈦合金的應(yīng)用范圍,且能滿足實際應(yīng)用的要求。 |
