一種鍍膜系統(tǒng)及其控制方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110800884.9 申請日 -
公開（公告）號 CN113416943A 公開（公告）日 2021-09-21
申請公布號 CN113416943A 申請公布日 2021-09-21
分類號 C23C14/56（2006.01）I;C23C14/50（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I;C23C16/458（2006.01）I;C23C16/52（2006.01）I;C23C16/54（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 牟培福;高軍思;牟成陽 申請（專利權(quán)）人 寧波天德創(chuàng)新智能科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京隆源天恒知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 丁晴晴
地址 315800浙江省寧波市北侖區(qū)大碶甬江南路58號1幢01室一層-1、二層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種鍍膜系統(tǒng)及其控制方法，包括腔室結(jié)構(gòu)，所述腔室結(jié)構(gòu)包括傳遞室和鍍膜室；閥門裝置，所述閥門裝置設(shè)置在所述傳遞室與所述鍍膜室之間；試料傳遞裝置，所述試料傳遞裝置設(shè)置在所述腔室結(jié)構(gòu)內(nèi)，所述試料傳遞裝置適于將所述試料從所述傳遞室傳遞至所述鍍膜室以及從所述鍍膜室將所述試料取回；多功能基座，所述多功能基座設(shè)置在所述腔室結(jié)構(gòu)內(nèi)，所述多功能基座包括升降裝置、旋轉(zhuǎn)裝置和抓取裝置，所述旋轉(zhuǎn)裝置設(shè)置在所述升降裝置上，所述抓取裝置與所述旋轉(zhuǎn)裝置連接。相對于現(xiàn)有技術(shù)，通過試料傳遞裝置與多功能基座的配合，提高了鍍膜的效率以及鍍膜質(zhì)量。該鍍膜系統(tǒng)的控制方法可以提高鍍膜的效率和質(zhì)量。