基于劑量場檢測的輻射成像方法及裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910568018.4 申請日 -
公開（公告）號 CN112146601B 公開（公告）日 2021-07-16
申請公布號 CN112146601B 申請公布日 2021-07-16
分類號 G01B15/02;G01T1/29 分類 測量；測試;
發(fā)明人 陳志強(qiáng);李元景;韓志偉;楊光;覃懷莉;戚文元;鄺山;梁愛鳳;劉燕琴 申請（專利權(quán)）人 同威信達(dá)技術(shù)（北京）股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京東方億思知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 代理人 彭瓊
地址 100084 北京市海淀區(qū)清華園1號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本公開公開了一種基于劑量場檢測的輻射成像方法及裝置。其中，基于劑量場檢測的輻射成像方法包括：獲取采用X射線掃描待檢測物體時待檢測物體在X射線對應(yīng)的輻照能量下的質(zhì)量厚度數(shù)據(jù)；根據(jù)待檢測物體對應(yīng)的質(zhì)量厚度分類條件，對質(zhì)量厚度數(shù)據(jù)中的各個質(zhì)量厚度值進(jìn)行分類；其中，質(zhì)量厚度分類條件根據(jù)待檢測物體對應(yīng)的質(zhì)量厚度值和電子束輻照劑量分布數(shù)據(jù)的映射關(guān)系數(shù)據(jù)確定；根據(jù)各個質(zhì)量厚度值及其所屬分類、電子束輻照劑量分布數(shù)據(jù)，生成用于顯示待檢測物體的質(zhì)量厚度和電子束輻照劑量分布數(shù)據(jù)的輻射圖像。根據(jù)本公開實(shí)施例，使得測試人員能夠直觀地根據(jù)輻射圖像確定劑量不均勻度是否符合要求，提高測試效率、降低測試成本。