一種對(duì)抗樣本的生成方法、裝置及電子設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011214726.7 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN112364745B 公開（公告）日 2021-09-14
申請(qǐng)公布號(hào) CN112364745B 申請(qǐng)公布日 2021-09-14
分類號(hào) G06K9/00;G06K9/62;G06N3/08 分類 計(jì)算；推算；計(jì)數(shù);
發(fā)明人 蕭子豪;高先峰;田天 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 北京瑞萊智慧科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京開陽(yáng)星知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 安偉
地址 100084 北京市海淀區(qū)中關(guān)村東路1號(hào)院8號(hào)樓16層B1801A-2
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本公開提供了一種對(duì)抗樣本的生成方法、裝置及電子設(shè)備，涉及人工智能技術(shù)領(lǐng)域，該方法包括：獲取攻擊對(duì)象的第一人臉圖像集合；基于目標(biāo)隱變量和預(yù)先訓(xùn)練好的生成式模型，生成目標(biāo)對(duì)抗補(bǔ)丁；將目標(biāo)對(duì)抗補(bǔ)丁添加至第一人臉圖像集合的每張圖像上，得到對(duì)抗樣本集合。本公開能夠有效提升對(duì)抗補(bǔ)丁攻擊的隱蔽性和穩(wěn)定性，并強(qiáng)化對(duì)抗補(bǔ)丁的黑盒遷移攻擊成功率。