一種對抗樣本的生成方法、裝置及電子設(shè)備
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202011214726.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112364745B | 公開(公告)日 | 2021-09-14 |
申請公布號 | CN112364745B | 申請公布日 | 2021-09-14 |
分類號 | G06K9/00;G06K9/62;G06N3/08 | 分類 | 計算;推算;計數(shù); |
發(fā)明人 | 蕭子豪;高先峰;田天 | 申請(專利權(quán))人 | 北京瑞萊智慧科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京開陽星知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 安偉 |
地址 | 100084 北京市海淀區(qū)中關(guān)村東路1號院8號樓16層B1801A-2 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本公開提供了一種對抗樣本的生成方法、裝置及電子設(shè)備,涉及人工智能技術(shù)領(lǐng)域,該方法包括:獲取攻擊對象的第一人臉圖像集合;基于目標(biāo)隱變量和預(yù)先訓(xùn)練好的生成式模型,生成目標(biāo)對抗補?。粚⒛繕?biāo)對抗補丁添加至第一人臉圖像集合的每張圖像上,得到對抗樣本集合。本公開能夠有效提升對抗補丁攻擊的隱蔽性和穩(wěn)定性,并強化對抗補丁的黑盒遷移攻擊成功率。 |
