一種薄層低缺陷微納米級石墨烯及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010837567.X 申請日 -
公開（公告）號 CN114074937A 公開（公告）日 2022-02-22
申請公布號 CN114074937A 申請公布日 2022-02-22
分類號 C01B32/184（2017.01）I;C01B32/19（2017.01）I;C01B32/198（2017.01）I 分類 無機化學(xué);
發(fā)明人 吳炳輝;楊亞東;趙興濤 申請（專利權(quán)）人 山東?？苿?chuàng)新研究院有限公司
代理機構(gòu) 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 劉樂
地址 257067山東省東營市東營區(qū)黃河路38號大學(xué)科技園生態(tài)谷38號樓15層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種微納米級石墨烯，所述石墨烯的片層邊緣為氧化石墨烯；所述石墨烯的片層除邊緣位置以外的其他部分為石墨烯。本發(fā)明得到了一種具體特定結(jié)構(gòu)的微納米級石墨烯，該石墨烯具有微米級別的大片徑和納米級別的薄度，在片層的邊緣具有氧化石墨烯的結(jié)構(gòu)和特性。本發(fā)明提供的微納米級石墨烯，具有片層小于5層的石墨烯結(jié)構(gòu)，而且表面官能團及缺陷度較低，石墨烯品質(zhì)較高，是一種薄層低缺陷石墨烯。本發(fā)明提供的制備方法通過機械剝離+弱氧化+化學(xué)淺插技術(shù)進行制備，方法簡單，成本低，更加適于工業(yè)化推廣及應(yīng)用。