一種用于晶圓烘烤單元的盤蓋結(jié)構(gòu)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011363408.7 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN114563933A 公開（公告）日 2022-05-31
申請(qǐng)公布號(hào) CN114563933A 申請(qǐng)公布日 2022-05-31
分類號(hào) G03F7/38（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 王惠生;樸勇男;孫元斌 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 沈陽芯源微電子設(shè)備股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 沈陽科苑專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 -
地址 110168遼寧省沈陽市渾南區(qū)飛云路16號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種用于晶圓烘烤單元的盤蓋結(jié)構(gòu)，下層盤蓋的上表面安裝有導(dǎo)氣穩(wěn)流裝置，上、下層盤蓋通過導(dǎo)氣穩(wěn)流裝置相連，并在上、下層盤蓋之間留有導(dǎo)氣通道；進(jìn)氣排風(fēng)安裝帽安裝于上層盤蓋上，進(jìn)氣排風(fēng)安裝帽上分別開設(shè)有相互獨(dú)立的排風(fēng)孔及進(jìn)氣通道，排風(fēng)孔延伸至下層盤蓋的底部，進(jìn)氣通道位于排風(fēng)孔的外圍，進(jìn)氣通道與導(dǎo)氣通道相連通，由進(jìn)氣通道進(jìn)入的氣體通過導(dǎo)氣穩(wěn)流裝置整流；上層盤蓋的上表面安裝有對(duì)由進(jìn)氣通道進(jìn)入的氣體進(jìn)行加熱的加熱裝置；盤蓋進(jìn)氣管的一端與進(jìn)氣通道相連通，另一端連接氣源；盤蓋排風(fēng)管的一端與排風(fēng)孔相連通，另一端連接風(fēng)機(jī)。本發(fā)明改善盤蓋內(nèi)的氣流走向及進(jìn)氣溫度預(yù)熱，進(jìn)而改善盤面的溫度均勻性。