一種環(huán)境輻射超低本底屏蔽裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201720305558.X 申請日 -
公開（公告）號 CN206672652U 公開（公告）日 2017-11-24
申請公布號 CN206672652U 申請公布日 2017-11-24
分類號 G21F7/00(2006.01)I;G21F3/00(2006.01)I;G21F1/08(2006.01)I;G21F1/02(2006.01)I;G21F1/12(2006.01)I;G01T7/00(2006.01)I 分類 核物理；核工程;
發(fā)明人 李宏;高志民;宋文冬;欒江磊;時良辰;凌超;劉禹;馮冬;闞藝寬;金菲菲;李源;羅鵬 申請（專利權(quán)）人 陜西秦洲核與輻射安全技術(shù)有限公司
代理機構(gòu) 武漢天力專利事務(wù)所 代理人 陜西秦洲核與輻射安全技術(shù)有限公司
地址 710075 陜西省西安市高新區(qū)唐延路1號旺座國際D座2701室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及核輻射測量技術(shù)領(lǐng)域，提供一種環(huán)境輻射超低本底屏蔽裝置，該屏蔽裝置包括屏蔽體、安裝支架，屏蔽體為圓柱形，中間設(shè)有屏蔽腔室；所述屏蔽體由外向內(nèi)依次包括鉛屏蔽層、水屏蔽層、低本底錫和高純銅雙層散射γ射線吸收層，其中高純銅位于最內(nèi)層，所述屏蔽體頂部設(shè)有與屏蔽腔室連通的氮氣吹掃接口，用于去除屏蔽腔室內(nèi)的天然氡氣，所述屏蔽體底部設(shè)有探測器安裝孔，安裝孔與屏蔽腔室連通，所述水屏蔽層由不銹鋼加工而成的儲水箱注水形成，屏蔽體上設(shè)有水位指示器以及與儲水箱連通的注水口和排水口。本實用新型能夠有效替代低本底鉛材料的屏蔽設(shè)計方案，為輻射測量提供一個超低本底測量環(huán)境，同時降低了屏蔽裝置的重量，便于運輸、安裝。