宇宙射線電離量絕對(duì)測(cè)量平臺(tái)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202020279553.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN211928194U | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-11-13 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN211928194U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-11-13 |
| 分類號(hào) | G01T1/24(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 羅鵬;楊佩;宋文冬;楊曉晶;安寧;李忠良;馮冬;文一震;穆然;成晨曦;馬柯;許滸 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 陜西秦洲核與輻射安全技術(shù)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 武漢天力專利事務(wù)所 | 代理人 | 陜西秦洲核與輻射安全技術(shù)有限公司 |
| 地址 | 710045陜西省西安市雁塔區(qū)雁翔路99號(hào)博源科技廣場(chǎng)C座502室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型涉及輻射監(jiān)測(cè)領(lǐng)域，提供一種宇宙射線電離量絕對(duì)測(cè)量平臺(tái)，包括支架、支撐件、主屏蔽層、第二屏蔽層、電離輻射防散射層，所述支架采用鋼筋混凝土加工而成，高度不低于5m，所述支架上依次架設(shè)支撐件、主屏蔽層、第二屏蔽層、電離輻射防散射層，所述支撐件采用碳鋼加工而成，所述主屏蔽層采用低本底鉛加工而成，所述第二屏蔽層采用不銹鋼外殼及高純水填充而成，所述電離輻射防散射層采用高純銅、高純錫及有機(jī)玻璃層疊而成。本實(shí)用新型平臺(tái)可將環(huán)境天然本底的總劑量率干擾降低至0.5%以下，在單次測(cè)量不超過(guò)15分鐘的情況下，將宇宙射線電離量的測(cè)量不確定度降低至5%以下。?? |
