一種CZ直拉法硅單晶爐副室的清潔裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201720520263.4 申請日 -
公開（公告）號 CN206736403U 公開（公告）日 2017-12-12
申請公布號 CN206736403U 申請公布日 2017-12-12
分類號 C30B15/00(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I 分類 晶體生長〔3〕;
發(fā)明人 馬四海;張笑天;馬青;朱光開;丁磊 申請（專利權(quán)）人 安徽易芯半導體有限公司
代理機構(gòu) 安徽合肥華信知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 安徽易芯半導體有限公司
地址 230000 安徽省合肥市新站區(qū)新蚌埠路3768號佳海工業(yè)城一期D84D85幢
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種CZ直拉法硅單晶爐副室的清潔裝置，其特征在于：包括有中空的伸縮套桿，所述伸縮套桿的端部安裝有支撐臺，所述支撐臺的外周邊分布有間隔設置的支撐桿，所述支撐桿的端部分別安裝有清潔刷頭，所述清潔刷頭包括有弧形刷頭、錐形刷頭、平面刷頭，所述支撐臺的中部安裝有與伸縮套桿內(nèi)孔連通且可轉(zhuǎn)動的中空細桿，所述中空細桿以及伸縮套桿之間貫穿一個細長的軟管，所述軟管的頭部設有多個圓形噴孔。本實用新型針對副室爐體內(nèi)壁表面結(jié)構(gòu)設計使用3種形狀的彈性刷頭更好的清理不同表面的氧化物，每一處清理到位，提高了清爐的效率，其操作方便簡單，可以節(jié)省操作人員的勞動強度，滿足了使用要求。