一種用于激光熔覆的送粉嘴

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202020143135.4 申請日 -
公開（公告）號 CN211713202U 公開（公告）日 2020-10-20
申請公布號 CN211713202U 申請公布日 2020-10-20
分類號 C23C24/10(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 王曉飚;張國超;湯波;朱濤;李欣;楊英滔;杜超飛;郭曉軍;王鵬 申請（專利權）人 西安必盛激光科技有限公司
代理機構 西安智邦專利商標代理有限公司 代理人 西安必盛激光科技有限公司
地址 710119陜西省西安市高新區(qū)新型工業(yè)園信息大道17號11號樓東205室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供了一種用于激光熔覆的送粉嘴，解決現(xiàn)有激光熔覆采用預置送粉填料方式，存在粉末利用率低、工件表面易出現(xiàn)砂眼的問題。該送粉嘴包括送粉嘴本體和冷卻系統(tǒng)；送粉嘴本體前端面設置進粉口，后端面設置有出粉口；出粉口的截面形狀為矩形；送粉嘴本體內(nèi)部設有送粉通道，送粉通道包括從前至后依次連通的第一通道和第二通道，定義送粉嘴本體的延伸方向為水平方向，第一通道沿水平方向設置，第二通道向下傾斜設置；第一通道中心線與第二通道中心線間的夾角為110°～130°；第一通道的前端與進粉口相連；第二通道的后端與出粉口相連，且第二通道的截面為與出粉口截面形狀、大小相同的矩形；冷卻系統(tǒng)設置在送粉嘴本體上，用于對送粉嘴本體冷卻。??