諧振器及其制造方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201910854492.3 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN110635776A 公開（公告）日 2019-12-31
申請(qǐng)公布號(hào) CN110635776A 申請(qǐng)公布日 2019-12-31
分類號(hào) H03H3/02（2006.01）; H03H9/02（2006.01）; H03H9/17（2006.01） 分類 基本電子電路;
發(fā)明人 王友良; 唐濱; 王家友; 魏濤; 賴志國(guó); 唐兆云; 楊清華 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 北京中科漢天下電子技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京藍(lán)智輝煌知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 陳紅
地址 100080 北京市海淀區(qū)北四環(huán)西路9號(hào)5層508-A
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種諧振器，包括：第一電極，位于基板上；壓電層，位于第一電極上；第二電極，位于壓電層上；框架圖形，位于第二電極與壓電層之間，其中第二電極在框架圖形下方具有側(cè)向突出部以圍繞在框架圖形與壓電層之間的空氣隙。依照本發(fā)明的諧振器，僅采用一次光刻?蝕刻工藝、利用框架結(jié)構(gòu)作為空氣橋的掩模而側(cè)向腐蝕，并利用上電極沉積的側(cè)向填充能力形成有效框架結(jié)構(gòu)，減少了與壓電材料接觸的工藝步驟，降低了對(duì)壓電材料的損傷，提高了壓電層表面潔凈度，并解決了光刻對(duì)位偏移對(duì)于框架結(jié)構(gòu)的影響。