一種薄膜體聲波諧振器結(jié)構(gòu)及其制造方法、濾波器以及雙工器

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201911265618.X 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN111130486A 公開(kāi)（公告）日 2020-05-08
申請(qǐng)公布號(hào) CN111130486A 申請(qǐng)公布日 2020-05-08
分類號(hào) H03H3/02;H03H9/02;H03H9/05;H03H9/10 分類 基本電子電路;
發(fā)明人 唐兆云;賴志國(guó);楊清華;王家友;唐濱 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 北京中科漢天下電子技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京元合聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 李非非
地址 215121 江蘇省蘇州市蘇州工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號(hào)蘇州納米城西北區(qū)15幢301和302室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種薄膜體聲波諧振器結(jié)構(gòu)的制造方法，包括：確定待形成的薄膜體聲波諧振器之間的連接方式；刻蝕基底形成凹槽并在凹槽內(nèi)填充犧牲層；形成覆蓋基底的疊層結(jié)構(gòu)并對(duì)疊層結(jié)構(gòu)進(jìn)行刻蝕，在每一凹槽上方形成疊層單元以及在待形成的以第一連接方式進(jìn)行連接的薄膜體聲波諧振器所對(duì)應(yīng)的疊層單元之間形成第一連接部；對(duì)刻蝕疊層結(jié)構(gòu)所形成的區(qū)域進(jìn)行填充以形成填充結(jié)構(gòu)；在疊層單元上形成第一上電極以及在待形成的以第二連接方式進(jìn)行連接的薄膜體聲波諧振器所對(duì)應(yīng)的第一上電極之間形成第二連接部；刻蝕第一連接部；去除填充結(jié)構(gòu)以及犧牲層。本發(fā)明還提供了一種薄膜體聲波諧振器結(jié)構(gòu)、濾波器和雙工器。本發(fā)明有效降低了器件的聲波損失。