n型氮化鎵自支撐襯底的制作方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201911407202.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN111128688A | 公開(公告)日 | 2020-05-08 |
申請公布號 | CN111128688A | 申請公布日 | 2020-05-08 |
分類號 | H01L21/02;H01L21/683 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 盧敬權(quán);何進(jìn)密;任俊杰 | 申請(專利權(quán))人 | 東莞市中鎵半導(dǎo)體科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 東莞市中鎵半導(dǎo)體科技有限公司 |
地址 | 523000 廣東省東莞市企石鎮(zhèn)科技工業(yè)園 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種n型氮化鎵自支撐襯底的制作方法,包括:在藍(lán)寶石襯底上形成氮化鎵模板層及非摻雜氮化鎵層;剝離藍(lán)寶石襯底,獲得非摻雜薄氮化鎵自支撐襯底;4)去除非摻雜薄氮化鎵自支撐襯底中晶體質(zhì)量最差的底層部分;在非摻雜薄氮化鎵自支撐襯底上外延生長n型氮化鎵層,獲得n型厚氮化鎵自支撐襯底;去除n型厚氮化鎵自支撐襯底底部的非摻雜層;對n型厚氮化鎵自支撐襯底進(jìn)行研磨拋光,獲得n型氮化鎵自支撐襯底。本發(fā)明的n型氮化鎵自支撐襯底的制作方法,在n型厚氮化鎵自支撐襯底具有不同程度翹曲的情況下,可以將n型厚氮化鎵自支撐襯底底部的非摻雜層完全去除,得到n型氮化鎵自支撐襯底。 |
