基于藍(lán)寶石襯底的HEMT的制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011078663.7 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN112216610A | 公開(公告)日 | 2021-01-12 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN112216610A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-01-12 |
分類號(hào) | H01L21/335;H01L21/683;H01L21/50;H01L23/373 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 莊文榮;盧敬權(quán) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 東莞市中鎵半導(dǎo)體科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 東莞市中鎵半導(dǎo)體科技有限公司 |
地址 | 523000 廣東省東莞市企石鎮(zhèn)科技工業(yè)園 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種基于藍(lán)寶石襯底的HEMT的制備方法,包括步驟:1)提供藍(lán)寶石襯底,于藍(lán)寶石襯底上外延生長(zhǎng)GaN外延層;2)將GaN外延層鍵合至高導(dǎo)熱基底上;3)剝離藍(lán)寶石襯底,以顯露GaN外延層的剝離面;4)對(duì)剝離面進(jìn)行拋光處理,獲得GaN拋光表面;5)基于GaN拋光表面完成GaN基HEMT結(jié)構(gòu)層的外延生長(zhǎng)。本發(fā)明采用藍(lán)寶石襯底外延生長(zhǎng)GaN,襯底成本較低,且可以有效提高HEMT結(jié)構(gòu)層的晶體質(zhì)量;本發(fā)明可以有效提高HEMT的良率,同時(shí)解決了藍(lán)寶石襯底導(dǎo)熱不足的缺陷,使得HEMT可以工作于較大功率的條件下。 |
