商標(biāo)進(jìn)度

商標(biāo)申請

初審公告

已注冊

4

終止

商標(biāo)詳情

商標(biāo)
商標(biāo)名稱 中鎵半導(dǎo)體 SINO NITRIDE 商標(biāo)狀態(tài) 商標(biāo)已注冊
申請日期 2009-05-25 申請/注冊號 7420232
國際分類 09類-科學(xué)儀器 是否共有商標(biāo)
申請人名稱(中文) 東莞市中鎵半導(dǎo)體科技有限公司 申請人名稱(英文) -
申請人地址(中文) 廣東省東莞市企石鎮(zhèn)科技工業(yè)園 申請人地址(英文) -
商標(biāo)類型 商標(biāo)續(xù)展---核準(zhǔn)通知打印發(fā)送 商標(biāo)形式 -
初審公告期號 1234 初審公告日期 2010-10-06
注冊公告期號 7420232 注冊公告日期 2011-01-07
優(yōu)先權(quán)日期 - 代理/辦理機構(gòu) 東莞市精業(yè)商標(biāo)專利事務(wù)有限公司
國際注冊日 - 后期指定日期 -
專用權(quán)期限 2021-01-07-2031-01-06
商標(biāo)公告 -
商品/服務(wù)
光通訊設(shè)備(0907)
信號遙控電子啟動設(shè)備(0907)
非醫(yī)用激光器(0910)
激光導(dǎo)向儀(0910)
光學(xué)器械和儀器(0911)
半導(dǎo)體器件(0913)
半導(dǎo)體(0913)
晶片(鍺片)(0913)
電開關(guān)(0913)
電弧切割設(shè)備(0917)
光通訊設(shè)備()
信號遙控電子啟動設(shè)備()
晶片(鍺片)()
電弧切割設(shè)備(0751)
商標(biāo)流程
2009-05-25

商標(biāo)注冊申請---申請收文

2009-06-09

商標(biāo)注冊申請---打印受理通知

2011-01-25

商標(biāo)注冊申請---打印注冊證

2020-05-18

商標(biāo)續(xù)展---核準(zhǔn)通知打印發(fā)送