一種鈦管表面種植金剛石微晶的方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201610554633.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN106011776A | 公開(公告)日 | 2016-10-12 |
申請公布號 | CN106011776A | 申請公布日 | 2016-10-12 |
分類號 | C23C16/02(2006.01)I;C23C16/27(2006.01)I;C02F1/461(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 潘凡峰 | 申請(專利權)人 | 上海開山中夏節(jié)能環(huán)??萍加邢薰?/a> |
代理機構 | 上海容慧專利代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 上海開山中夏節(jié)能科技有限公司 |
地址 | 201102 上海市閔行區(qū)平陽路258號一層J1177室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種鈦管表面種植金剛石微晶的方法。CVD法是制備金剛石電極的通用方法,制備出大面積金剛石電極的關鍵是基材表面種植均勻的、結(jié)合力強的金剛石微晶,成為CVD工藝中的晶種。本發(fā)明的方法是利用基材鈦與金剛石不同的熱膨脹系數(shù),在600~800℃的高溫下,用機械研磨法種植金剛石微晶。 |
