在刻蝕鐵鎳合金平板蔭罩中控制三氯化鐵刻蝕液的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN00137061.8 申請日 -
公開（公告）號 CN1172024C 公開（公告）日 2004-10-20
申請公布號 CN1172024C 申請公布日 2004-10-20
分類號 C23F1/28 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 吳志文;朱敏榮 申請（專利權）人 上海新芝電子有限公司
代理機構 上海專利商標事務所 代理人 顧敏
地址 200233上海市欽江路288號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明披露了一種在刻蝕鐵鎳合金平板蔭罩中控制三氯化鐵刻蝕液的方法，該方法包括保持FeCl3刻蝕液的溫度為60-70℃；保持FeCl3刻蝕液的比重為1.470-1.490；以50-120千克/小時的速度往刻蝕液中通入氯氣，將Fe2+的含量控制為占Fe2+和Fe3+總重量的4.50-10.00％；在刻蝕液中加入鹽酸溶液，使HCl的含量占刻蝕液總重量的0.200-0.600％；保持Ni2+的含量占刻蝕液總重量的0-3.00％。由該方法可以在保證平板蔭罩刻蝕質量的前提下提高鐵鎳合金平板蔭罩的刻蝕速度，提高對三氯化鐵刻蝕液中Ni2+含量分析的準確性。