一種掩膜板、制備及其應(yīng)用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110453539.2 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN113201710A 公開（公告）日 2021-08-03
申請公布號(hào) CN113201710A 申請公布日 2021-08-03
分類號(hào) C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/00;H01L51/56 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 茆勝 申請（專利權(quán)）人 睿馨（珠海）投資發(fā)展有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海洞鑒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 劉少偉
地址 519000 廣東省珠海市橫琴新區(qū)寶華路6號(hào)105室-32897（集中辦公區(qū)）
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種掩膜板、制備及其應(yīng)用，掩膜板包括至少兩層：第一掩膜層和第二掩膜層；所述第一掩膜層含有殘余拉應(yīng)力的第一材料；所述第二掩膜層含有殘余壓應(yīng)力的第二材料；所述第一掩膜層和第二掩膜層都保留了其在剛性基板上形成時(shí)殘余應(yīng)力的特征；當(dāng)所述掩膜板釋放其內(nèi)部殘余應(yīng)力，所述第二掩膜層橫向膨脹，所述第一掩膜層橫向收縮，所述掩膜板被殘余應(yīng)力共同作用達(dá)到最低的應(yīng)變能狀態(tài)。有益效果是：本發(fā)明的結(jié)構(gòu)使得掩膜板的應(yīng)力零位面從其結(jié)構(gòu)中間位置產(chǎn)生偏移，從而產(chǎn)生垂直于掩膜板面的力矩。當(dāng)應(yīng)用時(shí)，由于應(yīng)力作用補(bǔ)償了重力對掩膜板結(jié)構(gòu)的影響，從而減少了陰影效應(yīng)的影響，提高了材料沉積的圖案化精度，使得高分辨率的直接圖案化技術(shù)成為可能。