一種具有多層結(jié)構(gòu)的掩膜板

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110455191.0 申請日 -
公開（公告）號 CN113186490A 公開（公告）日 2021-07-30
申請公布號 CN113186490A 申請公布日 2021-07-30
分類號 C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 茆勝 申請（專利權(quán)）人 睿馨（珠海）投資發(fā)展有限公司
代理機構(gòu) 上海洞鑒知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 劉少偉
地址 519000 廣東省珠海市橫琴新區(qū)寶華路6號105室-32897（集中辦公區(qū)）
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種具有多層結(jié)構(gòu)的掩膜板，所述掩膜板包括至少兩層，并且具有至少一個開口；第一掩膜層與基板的距離小于第二掩膜層與基板的距離；所述第一掩膜層的開口橫截面小于第二掩膜層的開口橫截面；這樣蒸發(fā)的材料通過所述第二掩膜層進(jìn)入所述第一掩膜層，最后沉積在所述基板上。有益效果是：本發(fā)明的掩膜板采用開口的入口大于出口的設(shè)計，能夠有效減少蒸發(fā)材料的陰影效果；該掩膜板由于開口的設(shè)計，使得第二掩膜層可以做的比較厚，能夠有效支撐第一掩膜層，所以能克服現(xiàn)有掩膜板的脆弱性和下垂問題。