環(huán)保低輻射玻璃及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201810850782.6 申請日 -
公開（公告）號 CN108950478B 公開（公告）日 2021-05-04
申請公布號 CN108950478B 申請公布日 2021-05-04
分類號 C23C14/06;C23C14/08;C23C14/16;C23C14/18;C23C14/34;C03C17/36 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 呂崇新 申請（專利權(quán)）人 深圳萬佳互動科技有限公司
代理機構(gòu) 北京卓嵐智財知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 郭智
地址 210000 江蘇省南京市雨花臺區(qū)板橋街道柿子樹村工業(yè)園
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種環(huán)保低輻射玻璃及其制備方法，該環(huán)保低輻射玻璃自下而上依次包括：基材層、第一過渡層、摻雜氟銻的氧化錫層、種子層、功能層、調(diào)色層、第二過渡層、阻擋層以及保護層，其中，種子層是金屬Cu層，種子層的厚度為5?10nm，功能層為金屬Ag層，功能層的厚度為5?10nm，調(diào)色層為金屬Pd層，調(diào)色層的厚度為3?8nm，第二過渡層是金屬Ti層，第二過渡層的厚度為3?6nm，摻雜氟銻的氧化錫層的厚度為5?10nm。本發(fā)明的環(huán)保低輻射玻璃外觀美觀，同時還保證了較高的低輻射性能以及較高的可見光透射率。