一種PECVD裝置真空腔內(nèi)用汽體分散裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201920096195.2 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN209873098U | 公開（公告）日 | 2019-12-31 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN209873098U | 申請(qǐng)公布日 | 2019-12-31 |
| 分類號(hào) | C23C16/50（2006.01）; C23C16/455（2006.01） | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 楊福年; 鄭錫文 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 東莞市和域戰(zhàn)士納米科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 深圳市智圈知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 東莞市和域戰(zhàn)士納米科技有限公司 |
| 地址 | 523000 廣東省東莞市塘廈鎮(zhèn)宏業(yè)北路99A16號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種PECVD裝置真空腔內(nèi)用汽體分散裝置，包括與PECVD設(shè)備連接的通氣固定底座，通氣固定底座的中心軸向上延伸一段并向外展開形成有傘型錐狀支撐體，傘型錐狀支撐體上端連接有分散座與多個(gè)分散片，多個(gè)分散片均勻分散連接在分散座的外表面，通氣固定底座上在中心軸外周圍設(shè)置有多個(gè)通氣孔，分散座內(nèi)為中空的并通過連接片連接設(shè)置在分散座中心的中心通孔座，多個(gè)分散片的底部?jī)A斜角度設(shè)置為分散片與分散座的中心軸線方向呈5?35度。本實(shí)用新型通過傘型錐狀支撐體和多個(gè)分散片的設(shè)置，有益氣體快速有效分散進(jìn)入真空腔蒸汽，確保工件表面納米防水膜均勻分布，該分散裝置可以長(zhǎng)期耐180℃高溫環(huán)境工作，結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)緊湊合理，方便拆裝與維護(hù)。 |
