一種提高PECVD設(shè)備抽真空效率的裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201920208490.2 申請日 -
公開（公告）號 CN209537624U 公開（公告）日 2019-10-25
申請公布號 CN209537624U 申請公布日 2019-10-25
分類號 C23C16/513（2006.01）I; C23C16/54（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 楊福年; 鄭錫文 申請（專利權(quán)）人 東莞市和域戰(zhàn)士納米科技有限公司
代理機構(gòu) 深圳市智圈知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 東莞市和域戰(zhàn)士納米科技有限公司
地址 523000 廣東省東莞市塘廈鎮(zhèn)宏業(yè)北路99A16號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種提高PECVD設(shè)備抽真空效率的裝置，包括殼體和設(shè)置在殼體上的蓋板，殼體的外側(cè)設(shè)置有冷凝盤管，殼體內(nèi)的底部設(shè)置有加熱器；所述蓋板還設(shè)置有一根進氣管和出氣管，殼體底部連接有一根排液管；所述進氣管上連接有進氣閥，排液管上設(shè)置有排液閥。本實用新型中通過設(shè)置設(shè)置殼體和冷凝盤管等，可以將PECVD設(shè)備的真空倉體抽出的氣體進行降溫，將其中的雜質(zhì)降溫結(jié)晶從而從氣體中分離，進入真空泵的氣體不含結(jié)晶物，保證真空泵正常運行，從而提高了PECVD設(shè)備抽真空效率。