一種高光譜偽裝材料及其制備方法
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202010322073.8 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN111559152A | 公開（公告）日 | 2020-08-21 |
| 申請公布號 | CN111559152A | 申請公布日 | 2020-08-21 |
| 分類號 | B32B27/36(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 尹小龍;袁農(nóng);馮云成;江林嘉;左俊;杜興波;邱鵬;劉勇 | 申請（專利權(quán)）人 | 四川智溢實(shí)業(yè)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 成都點(diǎn)睛專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 四川智溢實(shí)業(yè)有限公司 |
| 地址 | 611731四川省成都市高新區(qū)(西區(qū))天勤路789號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種高光譜偽裝材料，包括由下至上依次層疊設(shè)置的底材、高光譜材料和封裝膜材料；高光譜材料包括：100?230份高光譜材料基體和4?21.4份多種顏料色漿；高光譜材料基體包括：1000份去離子水、0.5份硅烷偶聯(lián)劑、2份甘油、50份結(jié)晶水合物、5份貝殼粉、100份水性多羥基樹脂和25份纖維素；多種顏料色漿包括：210?260份去離子水、2份潤濕劑、3?32份分散劑、0.5?1.4份消泡劑、0.15?6.5份羥乙基纖維素和60?81份色粉。本發(fā)明的高光譜偽裝材料具有水吸收特征峰(1460nm、1940nm)，可以有效模擬植被光譜反射曲線，在可見光到近紅外波段(400?2500nm)滿足GJB1082?91相關(guān)色度學(xué)數(shù)據(jù)要求和GJB1411A?2015綠色植被標(biāo)準(zhǔn)光譜通道曲線要求，可以有效降低裝備在林地背景中被高光譜偵察設(shè)備發(fā)現(xiàn)的概率。?? |
