一種高光譜隱身涂料及其制備方法和高光譜隱身涂層
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010145573.9 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN111218197A | 公開（公告）日 | 2020-06-02 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111218197A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-06-02 |
| 分類號(hào) | C09D167/06(2006.01)I | 分類 | 染料；涂料；拋光劑；天然樹脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應(yīng)用; |
| 發(fā)明人 | 袁農(nóng);杜興波;邱鵬;羅雪丹;翁小龍;尹小龍;馮云成;黃剛;黃艷;孫才沅 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 四川智溢實(shí)業(yè)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 成都點(diǎn)睛專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 四川智溢實(shí)業(yè)有限公司 |
| 地址 | 611731四川省成都市高新區(qū)(西區(qū))天勤路789號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種高光譜隱身涂料，包括如下質(zhì)量百分比的組分：粘合劑40％～50％、顏填料14％～17.5％、功能性填料0～20％、助劑0.5％～1％和有機(jī)溶劑14％～18％。本發(fā)明制得的高光譜隱身涂料及涂層具有優(yōu)異的防高光譜偵察性能，在0.4～2.5μm，高光譜隱身涂層近紅外(710nm?880nm)反射率平均值與紅光區(qū)(620nm?660nm)反射率平均值之比＞5，光譜反射率在1200nm處反射率范圍為40％～60％，在1400nm處反射率范圍為30％～50％，在1800nm處反射率范圍為20％～40％，在2500nm處反射率范圍為0～20％，高光譜隱身涂層60度光澤小于5個(gè)光澤單位，滿足國(guó)家軍用標(biāo)準(zhǔn)要求，并具有傳統(tǒng)隱身材料不具有的抗高光譜偵察偽裝性能，將對(duì)抗波段擴(kuò)展到0.4?2.5微米范圍。此外，本發(fā)明還涉及一種高光譜隱身涂料的制備方法及一種高光譜隱身涂層。?? |
