增強(qiáng)低阻氯堿電解槽隔膜及其制備方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201911417931.0 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN111188060A | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-05-22 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111188060A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-05-22 |
| 分類(lèi)號(hào) | C25B13/08;C25B13/02;C25B1/46 | 分類(lèi) | 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 張永明;雷建龍;薛帥;劉烽;王麗;戴瓊;陳靜;屈凌波 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 山東東岳高分子材料有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 青島發(fā)思特專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 山東東岳未來(lái)氫能材料有限公司;山東東岳高分子材料有限公司;山東東岳未來(lái)氫能材料股份有限公司 |
| 地址 | 256401 山東省淄博市桓臺(tái)縣唐山鎮(zhèn)東岳氟硅材料產(chǎn)業(yè)園區(qū) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種增強(qiáng)低阻氯堿電解槽隔膜及其制備方法，屬于離子交換膜技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明所述的電解槽隔膜，包括基膜，基膜的兩面設(shè)有功能表面涂層，基膜由全氟磺酸聚合物層和全氟羧酸聚合物層組成，全氟磺酸聚合物層內(nèi)設(shè)有增強(qiáng)材料網(wǎng)，全氟磺酸聚合物層內(nèi)設(shè)有鏤空隧道；功能表面涂層為全氟離子聚合物構(gòu)成的多孔粗糙結(jié)構(gòu)。本發(fā)明所述的電解槽隔膜，不僅降低了膜體電阻，有利于離子的快速傳導(dǎo)，而且降低了膜表面對(duì)氣泡的粘附力，還提高了膜表面的有效電解面積，減少了局部極化現(xiàn)象，適合在新型高電流密度條件下的零極距電解槽中運(yùn)行，可顯著降低槽電壓，降低能耗；本發(fā)明同時(shí)提供了簡(jiǎn)單易行的制備方法。 |
