有機(jī)泡沫導(dǎo)電化處理的真空蒸鍍法及設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN01119666.1 申請日 -
公開（公告）號 CN1327081A 公開（公告）日 2001-12-19
申請公布號 CN1327081A 申請公布日 2001-12-19
分類號 C23C14/24;C23C14/20;C23C14/56 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 胡顯奇;盛鋼 申請（專利權(quán)）人 深圳市坦達(dá)尼真空表面技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 518053廣東省深圳市華僑城東部工業(yè)區(qū)E5棟5樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明有機(jī)泡沫導(dǎo)電化處理的真空蒸鍍法及設(shè)備,屬于用作制造電池電極基板泡沫鎳中對有機(jī)泡沫導(dǎo)電膜的制備。用真空蒸鍍法和鍍膜室兩側(cè)分別有一組電弧靶和輔助離化裝置,可以同時雙面均勻地直接實現(xiàn)連續(xù)帶狀泡沫的導(dǎo)電化處理。低溫鍍膜、沉積速率高、基體不變形,克服了液相法和磁控濺射法的主要不足,用作電鍍陰極制得的連續(xù)帶狀泡沫鎳,抗拉強(qiáng)度強(qiáng)、內(nèi)電阻小、柔韌性好。本發(fā)明還可用作電池電極基板其它材料的真空鍍膜。