一種復(fù)合鍍膜裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202022752385.0 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN214361671U 公開（公告）日 2021-10-08
申請(qǐng)公布號(hào) CN214361671U 申請(qǐng)公布日 2021-10-08
分類號(hào) C23C14/56（2006.01）I;C23C14/32（2006.01）I;C23C14/02（2006.01）I;C23C14/06（2006.01）I;C23C14/50（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I;C23C14/16（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 馮森;蹤雪梅;何冰 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 江蘇徐工工程機(jī)械研究院有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京縱橫知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 劉艷艷
地址 221004江蘇省徐州市徐州經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)馱藍(lán)山路26號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種復(fù)合鍍膜裝置，包括真空室和位于真空室內(nèi)的工件轉(zhuǎn)架，真空室內(nèi)集成有離子束源、脈沖電弧離子源和磁過濾電弧離子源；離子束源用于清洗工件或者輔助沉積；脈沖電弧離子源用于激發(fā)石墨靶材，產(chǎn)生碳離子，沉積Ta?C碳膜；磁過濾電弧離子源用于激發(fā)金屬靶材，產(chǎn)生金屬離子，沉積金屬薄膜、合金薄膜或化合物薄膜。本裝置將離子束技術(shù)、磁過濾離子鍍與脈沖離子鍍?nèi)N技術(shù)集成于一個(gè)真空室，提供多種鍍膜方式，實(shí)現(xiàn)多功能性和結(jié)構(gòu)性先進(jìn)薄膜制備，具有功能豐富、擴(kuò)展性強(qiáng)的特點(diǎn)，適用于開展科學(xué)研究及工業(yè)領(lǐng)域多樣性生產(chǎn)。尤其利用該裝置可高效率制備低應(yīng)力、高結(jié)合強(qiáng)度、結(jié)構(gòu)與性能可調(diào)控的Ta?C碳膜。