一種低壓低溫單片式工藝外延機(jī)臺(tái)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011206043.7 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN112133656A | 公開（公告）日 | 2020-12-25 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112133656A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-12-25 |
| 分類號(hào) | H01L21/67(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 鄭錦 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 南京原磊納米材料有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京專贏專利代理有限公司 | 代理人 | 南京原磊納米材料有限公司 |
| 地址 | 211800江蘇省南京市浦口區(qū)橋林街道步月路29號(hào)12幢305 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明適用于半導(dǎo)體硅鍺外延設(shè)備領(lǐng)域，具體是一種低壓低溫單片式工藝外延機(jī)臺(tái)，包括：石英反應(yīng)腔，在石英反應(yīng)腔四周加設(shè)有多組反射板，而反射板利用上下包圍分布在石英反應(yīng)腔四周的環(huán)形的加熱燈泡組對(duì)石英反應(yīng)腔加熱，其中，加熱燈泡組中包含有環(huán)形燈絲；以及，反射板利用其表面鋪設(shè)有的反射涂層對(duì)加熱燈泡組發(fā)出的熱量進(jìn)行反射，并把熱量全覆蓋無死角集中至石英反應(yīng)腔中；石英反應(yīng)腔進(jìn)行工作時(shí)，反射板利用反射涂層反射加熱燈泡組發(fā)出的熱量，并把熱量集中至石英反應(yīng)腔中，進(jìn)行加熱，通過調(diào)控多組反射板以及安裝在反射板內(nèi)部的加熱燈泡組，來調(diào)控加熱功率，來達(dá)到溫度均勻性的效果；提高發(fā)光效率和熱穩(wěn)定性。?? |
