一種改進(jìn)型ALD鍍膜機(jī)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | 2020207527897 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN212388110U | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-01-22 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN212388110U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-01-22 |
| 分類號(hào) | C23C16/455(2006.01)I; | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 鄭錦;薛傳洲;倪明;李蕊;吳俊冉 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 南京原磊納米材料有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京專贏專利代理有限公司 | 代理人 | 李斌 |
| 地址 | 211800江蘇省南京市浦口區(qū)橋林街道步月路29號(hào)12幢305 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型適用于原子層鍍膜領(lǐng)域，具體是一種改進(jìn)型ALD鍍膜機(jī)，包括在內(nèi)部安裝有拿持結(jié)構(gòu)的傳送放置通道，和多個(gè)放置腔體；其中，所述拿持結(jié)構(gòu)可對(duì)位于傳送放置通道內(nèi)部的晶圓拿持取放到多個(gè)放置腔體內(nèi)部的盒體中；還包括多個(gè)ALD反應(yīng)器；進(jìn)而，拿持結(jié)構(gòu)對(duì)位于傳送放置通道內(nèi)部的晶圓拿持取放到多個(gè)放置腔體內(nèi)部的盒體中，并利用盒體可對(duì)盒體及晶圓進(jìn)行翻轉(zhuǎn)，移動(dòng)到ALD反應(yīng)器中進(jìn)行單原子層沉積工藝反應(yīng)，進(jìn)行鍍膜；以及多個(gè)放置腔體和多個(gè)ALD反應(yīng)器可同時(shí)進(jìn)行多個(gè)晶圓鍍膜，效率得以提高；可對(duì)多個(gè)ALD反應(yīng)器做不同的介電常數(shù)材料的生長(zhǎng)，實(shí)現(xiàn)了多種材料工藝交替的鍍膜處理，無(wú)需更換生產(chǎn)線，提高效率的基礎(chǔ)上節(jié)省生產(chǎn)線的成本。?? |
