一種原子層沉積批量生產(chǎn)設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201910036498.X 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN109518165A 公開（公告）日 2021-06-04
申請(qǐng)公布號(hào) CN109518165A 申請(qǐng)公布日 2021-06-04
分類號(hào) C23C16/455 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 鄭錦;王新朋;劉兵武 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 南京原磊納米材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京華仲龍騰專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 李靜
地址 211800 江蘇省南京市浦口區(qū)橋林街道步月路29號(hào)12幢305
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種原子層沉積批量生產(chǎn)設(shè)備，涉及原子層沉積技術(shù)領(lǐng)域；包括輸送軌道、第一工藝腔和第二工藝腔，所述第一工藝腔和第二工藝腔之間通過過道腔連接，所述第一工藝腔上設(shè)置有第一進(jìn)/出腔，所述輸送軌道上設(shè)置有多個(gè)晶圓站；所述第一進(jìn)/出腔、過道腔和第二進(jìn)/出腔底部均設(shè)置有與之配合的輸送結(jié)構(gòu)；所述第一工藝腔和第二工藝腔上均設(shè)置有用于調(diào)整金屬盒高度的升降結(jié)構(gòu)，所述金屬盒用于輸送晶圓流動(dòng)設(shè)置。本發(fā)明實(shí)現(xiàn)了批量連續(xù)卷對(duì)卷的生產(chǎn)，提高出貨效率，工藝靈活有效，解決了原子層沉積批量生產(chǎn)的工藝整合的實(shí)際難題。