一種原子層沉積批量生產(chǎn)設備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910036498.X 申請日 -
公開（公告）號 CN109518165A 公開（公告）日 2021-06-04
申請公布號 CN109518165A 申請公布日 2021-06-04
分類號 C23C16/455 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 鄭錦;王新朋;劉兵武 申請（專利權(quán)）人 南京原磊納米材料有限公司
代理機構(gòu) 北京華仲龍騰專利代理事務所（普通合伙） 代理人 李靜
地址 211800 江蘇省南京市浦口區(qū)橋林街道步月路29號12幢305
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種原子層沉積批量生產(chǎn)設備，涉及原子層沉積技術(shù)領域；包括輸送軌道、第一工藝腔和第二工藝腔，所述第一工藝腔和第二工藝腔之間通過過道腔連接，所述第一工藝腔上設置有第一進/出腔，所述輸送軌道上設置有多個晶圓站；所述第一進/出腔、過道腔和第二進/出腔底部均設置有與之配合的輸送結(jié)構(gòu)；所述第一工藝腔和第二工藝腔上均設置有用于調(diào)整金屬盒高度的升降結(jié)構(gòu)，所述金屬盒用于輸送晶圓流動設置。本發(fā)明實現(xiàn)了批量連續(xù)卷對卷的生產(chǎn)，提高出貨效率，工藝靈活有效，解決了原子層沉積批量生產(chǎn)的工藝整合的實際難題。