一種低壓低溫單片式工藝外延機(jī)臺

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022492913.3 申請日 -
公開（公告）號 CN213635911U 公開（公告）日 2021-07-06
申請公布號 CN213635911U 申請公布日 2021-07-06
分類號 H01L21/67（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 鄭錦 申請（專利權(quán)）人 南京原磊納米材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京專贏專利代理有限公司 代理人 于剛
地址 211800江蘇省南京市浦口區(qū)橋林街道步月路29號12幢305
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型適用于半導(dǎo)體硅鍺外延設(shè)備領(lǐng)域，具體是一種低壓低溫單片式工藝外延機(jī)臺，包括：石英反應(yīng)腔，在石英反應(yīng)腔四周加設(shè)有多組反射板，而反射板利用上下包圍分布在石英反應(yīng)腔四周的環(huán)形的加熱燈泡組對石英反應(yīng)腔加熱，其中，加熱燈泡組中包含有環(huán)形燈絲；以及，反射板利用其表面鋪設(shè)有的反射涂層對加熱燈泡組發(fā)出的熱量進(jìn)行反射，并把熱量全覆蓋無死角集中至石英反應(yīng)腔中；石英反應(yīng)腔進(jìn)行工作時(shí)，反射板利用反射涂層反射加熱燈泡組發(fā)出的熱量，并把熱量集中至石英反應(yīng)腔中，進(jìn)行加熱，通過調(diào)控多組反射板以及安裝在反射板內(nèi)部的加熱燈泡組，來調(diào)控加熱功率，來達(dá)到溫度均勻性的效果；提高發(fā)光效率和熱穩(wěn)定性。