一種摻雜的肖特基勢壘器件及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201410384819.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN104124283B | 公開(公告)日 | 2018-10-26 |
申請公布號 | CN104124283B | 申請公布日 | 2018-10-26 |
分類號 | H01L29/872;H01L29/47;H01L21/329;H01L21/28 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 關(guān)世瑛;洪旭峰 | 申請(專利權(quán))人 | 上海芯石微電子有限公司 |
代理機構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 201605 上海市松江區(qū)新浜鎮(zhèn)香長公路1960號102室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種摻雜的肖特基勢壘器件及其制備方法;該肖特基勢壘器件具有摻磷肖特基勢壘區(qū)(P?MSi),較傳統(tǒng)的肖特基器件,在金屬硅化物中,進行低能量、小束流注入摻雜磷,通過快速退火激活磷雜質(zhì),形成摻雜磷的金屬硅化物勢壘結(jié)(P?MSi),同等面積下,具有低的正向飽和壓降(VF)的優(yōu)勢。 |
