溫度補償濾波器的制備方法、溫度補償濾波器和電子設備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210341696.9 申請日 -
公開（公告）號 CN114679146A 公開（公告）日 2022-06-28
申請公布號 CN114679146A 申請公布日 2022-06-28
分類號 H03H3/10（2006.01）I;H03H9/64（2006.01）I;H03H9/02（2006.01）I;C23C14/35（2006.01）I 分類 基本電子電路;
發(fā)明人 袁燕;于海洋;孟騰飛;閆彬;倪燁;張倩;王君;段英麗;馮志博;胡揚端瑞;時鵬程;徐浩;陳瑞 申請（專利權）人 北京航天微電科技有限公司
代理機構 北京輕創(chuàng)知識產權代理有限公司 代理人 -
地址 100854北京市海淀區(qū)永定路50號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及溫度補償濾波器技術領域，尤其涉及一種溫度補償濾波器的制備方法、溫度補償濾波器和電子設備，制備方法包括：利用光刻工藝，在基片上制備第一金屬薄膜，并剝離光刻工藝中所用的光刻膠；通過套刻工藝，在第一金屬薄膜的部分區(qū)域上制備第二金屬薄膜，并剝離套刻工藝中所用的光刻膠；利用磁控濺射設備在第一金屬薄膜和第二金屬薄膜上制備溫補薄膜，去除第二金屬薄膜以及第二金屬薄膜上的部分溫補薄膜，得到溫度補償濾波器。避免了因攜帶光刻膠進入磁控濺射設備的真空腔室鍍膜所導致的污染。而且，能夠避免干法刻蝕和濕法刻蝕帶來的不利影響。