一種垂直腔面發(fā)射激光器陣列及其制造方法與應用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010143277.5 申請日 -
公開(公告)號 CN111313234A 公開(公告)日 2020-06-19
申請公布號 CN111313234A 申請公布日 2020-06-19
分類號 H01S5/183(2006.01)I;H01S5/18(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 丁維遵;劉嵩 申請(專利權(quán))人 常州縱慧芯光半導體科技有限公司
代理機構(gòu) 上海光華專利事務所(普通合伙) 代理人 常州縱慧芯光半導體科技有限公司
地址 213000江蘇省常州市武進國家高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)鳳翔路7號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提出一種垂直腔面發(fā)射激光器陣列及其制造方法與應用,包括,至少兩個發(fā)射器,每一所述發(fā)射器包括至少兩個發(fā)射單元,所述發(fā)射單元之間設(shè)置有第一導電連接層;至少兩個絕緣區(qū),設(shè)置在所述至少兩個發(fā)射器之間;其中,所述至少兩個發(fā)射器通過串聯(lián)連接。本發(fā)明提出的垂直腔面發(fā)射激光器陣列可以提高發(fā)光面積。??