一種垂直腔面發(fā)射激光器陣列及其制造方法與應用
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010143277.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN111313234A | 公開(公告)日 | 2020-06-19 |
申請公布號 | CN111313234A | 申請公布日 | 2020-06-19 |
分類號 | H01S5/183(2006.01)I;H01S5/18(2006.01)I | 分類 | - |
發(fā)明人 | 丁維遵;劉嵩 | 申請(專利權(quán))人 | 常州縱慧芯光半導體科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 上海光華專利事務所(普通合伙) | 代理人 | 常州縱慧芯光半導體科技有限公司 |
地址 | 213000江蘇省常州市武進國家高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)鳳翔路7號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提出一種垂直腔面發(fā)射激光器陣列及其制造方法與應用,包括,至少兩個發(fā)射器,每一所述發(fā)射器包括至少兩個發(fā)射單元,所述發(fā)射單元之間設(shè)置有第一導電連接層;至少兩個絕緣區(qū),設(shè)置在所述至少兩個發(fā)射器之間;其中,所述至少兩個發(fā)射器通過串聯(lián)連接。本發(fā)明提出的垂直腔面發(fā)射激光器陣列可以提高發(fā)光面積。?? |
