一種光模塊光接收次模塊AWG耦合高度控制裝置及方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110797893.7 申請日 -
公開（公告）號 CN113253405B 公開（公告）日 2021-10-08
申請公布號 CN113253405B 申請公布日 2021-10-08
分類號 G02B6/42（2006.01）I;G02B6/12（2006.01）I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 唐永正;葉志;徐強;李波 申請（專利權(quán)）人 武漢英飛光創(chuàng)科技有限公司
代理機構(gòu) 北京匯澤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 代嬋
地址 430000湖北省武漢市東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)流芳大道52號鳳凰產(chǎn)業(yè)園（武漢.中國光谷文化創(chuàng)意產(chǎn)業(yè)園）E地塊5幢1層（1）廠房（2）廠房2層（1）廠房（2）廠房3層（1）廠房4層（1）廠房（2）廠房
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種光模塊光接收次模塊AWG耦合高度控制裝置及方法，該裝置包括光源和光學(xué)鏡頭，光源用于發(fā)出光束，并照射到待耦合光模塊的PD上表面，當(dāng)AWG靠近PD時，光源發(fā)出的光束照射到AWG前端會在AWG下方的PD上表面形成一個陰影，光學(xué)鏡頭用于觀察AWG下方PD上表面陰影的寬度，根據(jù)光學(xué)鏡頭觀察到的陰影寬度即可判斷AWG到PD的距離以及AWG下表面是否與PD上表面平行，確保耦合過程中AWG不接觸PD，且AWG下表面與PD上表面保持平行。本發(fā)明采用非接觸式方式測試AWG到PD的距離，避免了接觸PD導(dǎo)致PD損傷的風(fēng)險，且結(jié)構(gòu)較簡單，成本較低。