一種自帶除垢裝置的電化學(xué)反應(yīng)室及其除垢方法與應(yīng)用

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010894428.0 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN112158918A 公開(kāi)(公告)日 2021-01-01
申請(qǐng)公布號(hào) CN112158918A 申請(qǐng)公布日 2021-01-01
分類號(hào) C02F1/46(2006.01)I 分類 水、廢水、污水或污泥的處理;
發(fā)明人 蘇長(zhǎng)賓;陳義民;唐文明;索傳虎;唐振;宋洪巖 申請(qǐng)(專利權(quán))人 聊城魯西氯芐化工有限公司
代理機(jī)構(gòu) 濟(jì)南圣達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 王志坤
地址 252211 山東省聊城市高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開(kāi)發(fā)區(qū)化工新材料產(chǎn)業(yè)園
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本公開(kāi)涉及電化學(xué)水處理領(lǐng)域,具體提供一種自帶除垢裝置的電化學(xué)反應(yīng)室及其除垢方法與應(yīng)用。所述自帶除垢裝置的電化學(xué)反應(yīng)室,包括蓋板和反應(yīng)室腔室,所述反應(yīng)室腔室為方形,所述蓋板下方垂直交錯(cuò)分布有多個(gè)陽(yáng)極板與陰極隔板,每相鄰兩個(gè)陽(yáng)極板與陰極隔板之間有除垢單元,所述除垢單元通過(guò)對(duì)陰極隔板及箱體的刮擦達(dá)到除垢效果。解決現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)于電化學(xué)反應(yīng)室除垢,化學(xué)藥劑法存在二次污染,人工刮除法效果較差,刮除成本高,且除垢時(shí)往往需停止運(yùn)行,目前的外部除垢裝置對(duì)電機(jī)給進(jìn)路線要求精度較高,且除垢時(shí)依舊需要電化學(xué)反應(yīng)室停工的問(wèn)題。??