高熵硼硅陶瓷材料等離子熱噴涂制備梯度陶瓷涂層的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111235250.X 申請日 -
公開（公告）號 CN114000091A 公開（公告）日 2022-02-01
申請公布號 CN114000091A 申請公布日 2022-02-01
分類號 C23C4/134（2016.01）I;C23C4/02（2006.01）I;C23C4/04（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 邰召山 申請（專利權(quán)）人 兆山科技（北京）有限公司
代理機構(gòu) 上海恩凡知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 吳堯曉
地址 101300北京市順義區(qū)高麗營鎮(zhèn)金馬園二街164號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了高熵硼硅陶瓷材料等離子熱噴涂制備梯度陶瓷涂層的方法，高熵硼硅陶瓷材料組分及研磨后的粒徑處于10?20um的范圍，涂層制備方法包括以下步驟：步驟一、基面處理，對基材表面剖光的同時制造表面錨紋處于50?70um；步驟二、對基材進行預(yù)熱和保溫；步驟三、原料混合，研磨和過篩；步驟四、保護氣體；步驟五、將過篩后的高熵硼硅陶瓷混合粉加入送粉器，并調(diào)節(jié)設(shè)備參數(shù)；步驟七、等離子噴涂，制得高熵硼硅陶瓷復(fù)合涂層，本發(fā)明通過對表面錨紋和陶瓷材料研磨粒徑的把控，提升了涂層與基面間的附著力，又通過設(shè)計電弧的功率（30?40KW）、供粉速度（160?180g/min）和噴涂距離（70?80mm）、角度（85?95度）間的參數(shù)之間的配合來進一步提升陶瓷涂層強度、韌性、耐沖擊和耐磨性能。