一種利用冷噴涂制備高熵硼硅陶瓷表面材料的方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011387095.9 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN113265652A 公開(kāi)（公告）日 2021-08-17
申請(qǐng)公布號(hào) CN113265652A 申請(qǐng)公布日 2021-08-17
分類號(hào) C23C24/04;C04B35/46;C04B35/622;C04B35/626 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 邰召山 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 兆山科技（北京）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 杭州君度專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 樂(lè)俊
地址 100015 北京市順義區(qū)高麗營(yíng)鎮(zhèn)金馬園二街164號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種利用冷噴涂制備高熵硼硅陶瓷表面材料的方法，包括以下步驟：第一步：TiO2陶瓷粉末的前處理將TiO2陶瓷粉末、硫酸銨粉末與去離子水混料進(jìn)行水熱處理，清洗去除硫酸根粒離子，干燥后得到由納米粉團(tuán)聚的微米級(jí)TiO2陶瓷粉末；第二步：冷噴涂制備TiO2陶瓷涂層將第一步得到的TiO2陶瓷粉末經(jīng)預(yù)熱后冷噴涂在基體材料表面。有益效果是：本發(fā)明借助水熱處理技術(shù)得到由納米粉團(tuán)聚成的微米級(jí)TiO2粉體，僅僅使用低成本的壓縮空氣為載氣就能制備厚度為20～400μm的TiO2陶瓷涂層。該方法沉積效率高，可根據(jù)實(shí)際使用情況隨意調(diào)節(jié)TiO2陶瓷涂層的厚度，可以用來(lái)制備厚的TiO2陶瓷涂層。