金屬離子注入設(shè)備內(nèi)動態(tài)水冷系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200910015430.X 申請日 -
公開（公告）號 CN101886250A 公開（公告）日 2010-11-17
申請公布號 CN101886250A 申請公布日 2010-11-17
分類號 C23C14/48(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 王桂岳;趙松強;欒庚祖 申請（專利權(quán)）人 龍口市比特真空技術(shù)有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 265702 山東省龍口市北馬鎮(zhèn)青年路1號龍口市比特真空技術(shù)有限公司
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明具體涉及一種用于真空設(shè)備內(nèi)動態(tài)狀況下冷卻的金屬離子注入設(shè)備內(nèi)動態(tài)水冷系統(tǒng)。其特征是：外套外側(cè)設(shè)有進、出水口，通過內(nèi)套的進、出水孔及進出水管與工件托盤內(nèi)腔體相連通，又通過串聯(lián)水管使多個工件托盤相連通。因而具有工件定位準確、束斑范圍內(nèi)注入離子均勻、工件溫升小、幾何形狀穩(wěn)定，保證工件表面硬度和耐磨性等優(yōu)點。