晶圓的測(cè)試結(jié)構(gòu)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202122645820.4 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN216084883U | 公開(公告)日 | 2022-03-18 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN216084883U | 申請(qǐng)公布日 | 2022-03-18 |
分類號(hào) | H01L23/544(2006.01)I;H01L21/66(2006.01)I;G01R31/26(2014.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 劉恩峰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 北京燕東微電子科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京成創(chuàng)同維知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 蔡純;張靖琳 |
地址 | 100176北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)經(jīng)海四路51號(hào)院1號(hào)樓5層516 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本專利申請(qǐng)公開一種晶圓的測(cè)試結(jié)構(gòu),該測(cè)試結(jié)構(gòu)中的每個(gè)測(cè)試單元包括:相鄰且分隔的多個(gè)第一摻雜區(qū)與多個(gè)第二摻雜區(qū);以及多個(gè)柵極結(jié)構(gòu),沿第一方向,多個(gè)第一摻雜區(qū)與多個(gè)柵極結(jié)構(gòu)間隔排布,第二摻雜區(qū)與第一摻雜區(qū)對(duì)應(yīng)分布在多個(gè)柵極結(jié)構(gòu)之間,第一方向垂直于晶圓的厚度方向,多個(gè)柵極結(jié)構(gòu)包括第一柵極和多個(gè)第一偽柵極,沿第一方向,位于第一柵極兩側(cè)的第一摻雜區(qū)分別為第一源區(qū)和第一漏區(qū),兩側(cè)的第二摻雜區(qū)分別為第二源區(qū)和第二漏區(qū),第一源區(qū)、第一漏區(qū)、第二源區(qū)、第二漏區(qū)以及第一柵極分別連接至對(duì)應(yīng)的測(cè)試電極,并且多個(gè)第一偽柵極與測(cè)試電極電隔離。通過形成多個(gè)偽柵極結(jié)構(gòu),從而模擬半導(dǎo)體器件中的多個(gè)柵極,提高了測(cè)試的準(zhǔn)確率。 |
