一種改善電流擴展效率的發(fā)光二極管及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN200810218304.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN101752478A | 公開(公告)日 | 2010-06-23 |
申請公布號 | CN101752478A | 申請公布日 | 2010-06-23 |
分類號 | H01L33/00(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 胡加輝;沈志強;廖家明;楊仁君;朱國雄;江明璋;吳煊良 | 申請(專利權(quán))人 | 世紀晶源科技有限公司 |
代理機構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 518107 廣東省深圳市光明新區(qū)高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)園化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)基地(世紀晶源) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種改善發(fā)光二極管電流擴展效率的發(fā)光二極管及其制備方法,該發(fā)光二極管包括襯底、N型電流擴展層、多量子阱有源發(fā)光區(qū)、P型電流擴展層、透明導(dǎo)電層、P電極及N電極,其中,所述的P型電流擴展層內(nèi)形成有一電流阻擋區(qū),該電流阻擋區(qū)內(nèi)設(shè)置有電流阻擋層;所述的方法是通過離子植入或二次外延的方式在P型電流擴展層內(nèi)形成電流阻擋層,本發(fā)明所述的電流阻擋層,它能使P型電極注入的電流橫向擴展到電極下方以外的有源發(fā)光區(qū),使P電極下方無電流,不發(fā)光,增加了發(fā)光效率,減少了焦耳熱的產(chǎn)生,提高了器件的熱性能、壽命及可靠性。 |
