一種使用剝離法形成金屬圖案的方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN200910106985.5 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN101894792A 公開(kāi)（公告）日 2010-11-24
申請(qǐng)公布號(hào) CN101894792A 申請(qǐng)公布日 2010-11-24
分類(lèi)號(hào) H01L21/768(2006.01)I;H01L21/78(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I 分類(lèi) 基本電氣元件;
發(fā)明人 楊坤進(jìn);楊康;陳汝欽 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 世紀(jì)晶源科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 518107 廣東省深圳市光明新區(qū)高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)園化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)基地(世紀(jì)晶源)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及化合物半導(dǎo)體領(lǐng)域，提供一種使用剝離法形成金屬圖案的方法，其是在襯底上涂覆正光阻；再對(duì)已經(jīng)涂好光阻的襯底進(jìn)行軟烤，并對(duì)已經(jīng)軟烤完成的光阻進(jìn)行全面曝光；再完成全面曝光的襯底進(jìn)行曝光后烘烤；使用顯影液對(duì)上述襯底進(jìn)行顯影，使上述的已經(jīng)涂覆的兩層光阻產(chǎn)生底切結(jié)構(gòu)；使用物理氣相沉積法在正光阻襯底上沉積一層金屬薄膜；使用一般去光阻的溶液將該光阻溶解，光阻上面的金屬將從襯底掀離，從而在襯底形成精細(xì)的圖案。該方法使用雙層正光阻通過(guò)光刻技術(shù)形成具有底切結(jié)構(gòu)光阻剖面，使后續(xù)所沉積金屬在光阻圖案邊緣出產(chǎn)生不連續(xù)，在溶液中使光阻溶解而將金屬掀離，從而形成精細(xì)的金屬圖案。