電極結(jié)構(gòu)、半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)和電極結(jié)構(gòu)的制造方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201910752870.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN110364524B | 公開(公告)日 | 2022-06-17 |
申請公布號 | CN110364524B | 申請公布日 | 2022-06-17 |
分類號 | H01L27/06(2006.01)I;H01L21/822(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 杜益成;王猛;喻慧 | 申請(專利權(quán))人 | 矽力杰半導(dǎo)體技術(shù)(杭州)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 310051浙江省杭州市濱江區(qū)西興街道聯(lián)慧街6號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種電極結(jié)構(gòu),半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)以及電極結(jié)構(gòu)的制造方法,所述電極結(jié)構(gòu)包括半導(dǎo)體基底;由所述半導(dǎo)體基底上表面延伸至所述半導(dǎo)體基底內(nèi)部的溝槽;由所述半導(dǎo)體基底的上表面延伸至所述半導(dǎo)體基底內(nèi)部的接觸區(qū),以及填充在溝槽內(nèi)部的填充材料,其中,所述接觸區(qū)與所述溝槽外側(cè)壁相接觸。本發(fā)明的電極結(jié)構(gòu)用于吸收半導(dǎo)體中電子/空穴,以防止半導(dǎo)體中的寄生結(jié)構(gòu)導(dǎo)通。另外,所述電極結(jié)構(gòu)的面積較小,降低了制造成本。 |
